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出口管制 | 稀土永磁材料管制临界点及加工程度判定

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发表于 2025-5-10 07:58:30 | 显示全部楼层 |阅读模式
4 z5 n) Y& P+ Z8 q
编者按- q1 P5 i! w9 U# T( s' W3 z
! S3 L. }/ L( E9 i! V2 m
本文作者 海阔天空8 _' {8 z( G% N' W

, o4 u9 k2 ?6 ^* D- H: g关务范儿学习群成员。通过对公告的解读,经过查找相关国标级行业标准,提出了对于稀土永磁材料管制与否的比较简单实用的判定方法,可操作性很强。( z8 Y* m2 P, A. I& g: o3 J
  ^: @5 |( G. E4 G
& @* S8 q( ?6 M) A, l0 G
; J7 l1 o* E+ {2 w# s

) m# X3 L) p( K5 B. @8 ^
7 m: N% x( h; }) k3 W# Y
: r; `! V0 l, [0 @
一、管制材料清单及相应解答
& M' T* k; b# n( X2 J1 W7 \& {9 [% [4 M" O4 T0 Q# y

! O2 q. N; A6 V4 D
, @! a$ ~& I2 E& j5 ^0 g9 j) M

7 v7 `2 p/ q: S' [: ?) H根据商务部 海关总署2025年第18号公告,对稀土永磁体的管制范围包括以下几种:& }2 z. o( o. W- C/ e( T1 y
: ^- i5 j  R3 J- ~4 S0 E. y6 o
·钐钴永磁材料(SmCo): \/ B% e8 A5 W, ]

8 D* y- \) |- a6 f/ C·含铽的钕铁硼永磁材料(NdFeB+Tb)
5 e) x5 |0 r9 j. P; p( ~
2 S) D8 j( i& n2 c6 p1 W·含镝的钕铁硼永磁材料(NdFeB+Dy)
* b' ?- v8 D& o" b; [% Q
. Q9 r4 \# s& r6 p( W随后,为了进一步明确管制范围,防止“误伤”,商务部安全与管制局又通过两用物项常见问题解答之四(稀土)进行了进一步解答。
: `: f0 P) J1 }9 q+ U1 {: r# `- P1 n6 ]" V$ V
: N' c, ?9 b9 x$ @- t  i+ l

5 Z: u" w% m$ G! i6 U+ D; S" h/ }! r; O# B7 h
w1.jpg 4 m9 T" t/ E* @9 k" h- s/ G

+ w2 X* s9 k" N. k! {# _属于管制的磁钢形态0 B4 ^; N& J3 m" o1 Z9 J+ S- y
+ k' L5 x$ y0 y4 x8 _* w
鉴于近期出口的不少相关磁铁,例如磁钢、钕铁硼磁铁等在清关过程中已经遇到的“卡顿”的情况,很有必要结合以上公告和解答来界定一下“永磁材料”管制范围,做到合规出口。两用物项常见问题解答之四(稀土)明确,由钐钴永磁材料、含铽的钕铁硼永磁材料、含镝的钕铁硼永磁材料经进一步简单加工形成的初级加工产品,如片、瓦、环以及相关磁组件,属于管制范围,可能涉及磁钢、磁环、磁石等多种名称;进一步深度加工形成的电子元器件(如电机)或电子产品(如扬声器、耳机等),不属于管制范围。
8 @" K7 h& x) m; `4 ~' V# @3 l' x: z8 U/ l' a% h
w2.jpg " j9 F- \& a8 d# i- c# H$ j
* k# g9 X' ]4 i$ Y
含磁铁扬声器不属于管制" D  M. Y) b% `9 a
/ q0 T& R/ }% _/ R$ R3 U1 U4 ^
w3.jpg
  `' B" ~* f9 y7 |+ l
( E# @. W- T' D) {2 G5 _& c含钕铁磁的耳机不受管制
, ?4 ~8 c  m$ E, Y) a! j& y8 S/ P
. U7 R$ _7 Z  |' s 此外,荧光粉、催化材料(如“汽车用触媒”)、晶体材料(如“硅酸镥钇光学晶体”)、陶瓷材料(如“钇锆合金”“全磁义齿用氧化锆瓷块”“陶瓷增白剂”“热喷涂粉末”“钇稳定氧化锆粉末”)等稀土下游功能材料不属于中重稀土物项管制范围。
  {3 ^/ V% @- _; X
2 h: N& f7 N) A w4.jpg 9 |$ F1 r( \. \8 m7 _8 J7 x
! g# F6 H9 p$ o6 o
钇稳定氧化锆粉末不受管制
( G, [& R3 n7 V- Z/ I
' X+ |* w: @# p3 a- T但是,如果同时含有钇、锆元素的物项相关指标若符合两用物项出口管制清单1C234等项下所管制物项指标,应按相关两用物项要求管理。% R( I: {! A# a0 u. `8 {7 R. C

/ T4 _" ^3 q# T: N! T“钆布醇-水合物”“钆特酸葡胺”不属于中重稀土物项管制范围。- ~! K3 N3 H5 o' V  o) {2 b
二、加工深度的定义与临界点界定
: T; A2 n: J# y# ?. q8 ~1 Z7 V% U- K  I! B# m$ R; K  x
) \. p( _" M4 _9 ]( Y
, p0 V! Q9 u' f" D
1. 简单加工(初级加工产品)定义:对永磁材料进行物理形态改变(如切割、成型、表面处等),& }' ^; G; f  O/ q% K

: O$ m6 O5 ~$ V9 V* F未改变核心磁性能或未形成完整功能模块的加工过程。典型形态:片、瓦、环、磁钢、磁环、磁石等初级形态。$ T) R) g3 a  E; `  G& m! m
' J$ C) g' x7 y4 {
w5.jpg 9 c! t! K$ f* ^8 G' X) s

; ?1 y# L; d. b% `& n初级加工的永磁产品1 L; b3 p! M$ P0 f0 W6 ^
/ J2 c' {5 H- B: g- V- q
管制范围:处于材料功能化前的中间状态,属于管制物项。- Y. J. q1 Q' M5 c" u. T$ I

5 ?: ?. m9 f( p3 }* G2. 深度加工(电子元器件/电子产品)定义:将初级加工产品与其他组件结合,形成具有特定功能的终端产品或复杂部件(如电机、传感器)。
, g8 o6 W6 {. d% Y2 R! ?4 u& t( l6 v6 X. O# S8 ]) |
典型形态:扬声器、耳机、电机等集成磁材的电子设备。1 M/ K; p! o* ^/ ?/ j- v
& O" ~; T- y0 S* C
w6.jpg 9 _& j- [& E' O5 K0 V
& H6 b2 J+ g3 O: _8 m2 [
含永磁材料的电机不受管制
% k9 t6 v& k* J. W( q) f( n6 Y) V/ F
非管制范围:已实现功能化应用,脱离中间材料属性。
) ?9 D# v: G) y( {4 s
" }- O1 u4 X* n# _3 a" L1 \
, f1 x5 k  R. a4 ^6 U! K" }三、手机支架/平板保护套中磁铁的归类分析4 c7 z! e/ a; O& e- \  D" h

+ [' K# H9 L/ @" o2 ]8 ]+ P: R5 w7 O1 [# e

" c( U" N8 _6 }
( s7 I  \# [; _3 e  w! m8 |' S% c. ]# G判定逻辑
& h7 x+ O8 R3 o9 G1 l) u; k2 [, X! ?+ c% t8 A8 y4 _
·管制情形:磁铁以独立形态(如磁片、磁环)嵌入,未与其他电子元件形成功能模块。( u4 U/ [% m( G" r, w. S- P8 R
7 y6 K  a: d0 d6 o
·非管制情形:磁铁与电路板等组件集成,实现吸附触发传感器等智能功能。
7 p3 v. t& g( _1 ?4 m
! v: V- Q3 A0 P1 o: Y1 M, n& G示例说明
+ V. |1 I1 E0 v+ a* u; B4 g  D/ G1 L* i, M# a9 v3 x

1 s* C2 E( a$ r3 o4 ]  d4 q
5 U/ X# N8 K2 i6 Z: n) z
8 A3 b' Q/ r5 G0 f4 c2 D1 b
场景
' @3 O% Y$ T4 ~
7 s! p0 \, a7 g
归类
' q" S3 n; c2 ?  f9 h  O; a4 Z
+ f# f' \8 b6 @, y
依据7 [) s: t  v1 Z" T0 C

$ o/ m! L" L. Y9 k保护套含独立磁片用于吸附" v; L. ]9 C' \  q% d

7 I: q$ g0 e5 s' j管制范围- H2 l- e) v' i0 w

8 j. \: Q8 C0 m$ `初级加工形态(磁片)6 Y% Q& V1 G" q. u
0 G8 z9 j5 u1 c, ]% T! \
磁铁与电路板结合实现智能唤醒4 J7 j. {/ M1 G+ s- f: M8 W

: b* b; B, V- v非管制范围) ?; z7 H0 J/ y
8 U( c5 _: G$ G# g' [
深度功能集成(传感器)
0 A( {+ T. k7 ~

8 Z* n1 i! C; b4 k! R8 E以上几点是我个人从商务部产业安全与进出口管制局解答角度判断,不到之处还请各位读者指正并在评论区留言告诉我。) l- Y, s* Z  x. M

  u- Z# Q( o# m  a! S. b2 P四、国家标准与行业标准依据
  d) \' |% G* E- p' L. \9 p9 w+ i+ |. l
国家标准(GB)中并未对金属材料“简单加工”和“深度加工”给出明确的分类定义,但存在与加工层次和工艺相关的标准规范。
- @2 D7 e  }* b% u& K$ e6 B) T" x. y5 U6 s" Z( Y
1. 功能化临界点$ o' p; u$ t& g! Z1 w& A: D  z

/ O; ~. ?4 F$ _+ j5 @" `8 k- b" B1.1从管制局解答角度判断是以材料是否被赋予特定应用功能为界,例如:
5 j' j5 F5 ~& |9 h
0 ^3 j% j0 Q8 i! J3 ^0 ?5 M·初级加工:切割、镀层等物理处理(机械制造工艺中的表面处理或冷作工艺)。
7 ?2 H8 Y6 v6 h2 q/ I
; g# o, M8 U/ y·深度加工:磁路设计、封装集成(涉及电磁兼容性优化及精密结构集成)。
, _0 k' b1 g* W# d3 J  m3 A5 }1 q( }% T4 h! r
1.2从国家标准通过加工精度、表面质量等参数间接划分加工层次,例如:
3 J, _0 f5 }( D5 a. @& |5 F; b. U* n! n) e9 x
粗加工:以高材料去除率为目标,加工精度较低(如粗车、粗刨),常用于毛坯预加工。其标准关注尺寸公差和表面粗糙度,例如热轧钢板的尺寸偏差(GB/T 709-2019)。
& |7 x2 N7 O$ t4 L
' t+ |: m' \; E& S7 t. F6 I. `精加工与精整加工:强调高精度和表面质量(如精磨、珩磨),涉及标准如GB/T 11253-2019(碳素结构钢冷轧钢板及钢带)和GB/T 3280-2015(不锈钢冷轧钢板和钢带)。4 `- [2 n4 ~# e1 Y8 i" Y( J

$ Q6 U$ K, X9 k- {5 Y4 M$ H( v超精密加工:针对航天、电子等领域,要求精度达IT4以上,表面粗糙度≤Ra0.01µm,例如镜面磨削的工艺标准2 t* h; c. P- U; _4 C: ~, r

( l  j5 o  ]6 O切削加工:包括车削、铣削等方法,标准如GB/T 8731-2008(易切削结构钢)和GB/T 9791-2003(锌、镉、铝-锌合金和锌-铝合金的铬酸盐转化膜试验方法)。; b/ T' Z+ a: u0 }
; J9 J( n/ d" l- |. K) K
表面处理:电镀、喷涂等工艺需符合GB/T 24791-2009(铝合金阳极氧化膜)和GB/T 2518-2019(连续热镀锌和锌合金镀层钢板及钢带)。/ }# R! D, Z9 _0 a+ `! _
: M# w$ g! B1 h: r  f
焊接与成型:焊接方法(如电弧焊、激光焊)需满足GB/T 2059-2017(铜及铜合金带材)等标准。) B" k5 b- i6 E, S9 R& n5 ^1 ]
1 N3 r8 Z) M) @3 L$ v4 v
2. 核心标准文件
1 j+ V( L4 b8 X6 t) B6 @& @6 c2 `! w9 R% Y" r- p) \* a3 @6 v
JB/T 5992.10-1992:机械制造工艺方法分类与代码,明确工艺技术复杂度分层。
9 t% E( f9 s1 Q( a# J) _6 q/ x
0 d  e* b$ z( T" E, @# [GB/T 12334-2001:金属覆盖层厚度测量定义,规范加工工艺参数。! q, C2 c# A% K; b) U
  h+ Z. s1 h: w6 Z1 t3 _, U) N+ w
3.行业术语与共识
3 Z2 t3 K6 o* Y! Z
' A6 ?( Z5 k6 p: h9 K尽管缺乏国标定义,行业实践中常通过以下维度区分加工层次:* A9 n# p2 W2 `
: g+ A$ R. B2 @. ~: l: c
材料去除率:粗加工(高去除率)vs 精加工(低去除率)。. t5 S6 V# z5 g7 S
# b8 J2 D! A8 z
工艺复杂度:简单加工(如切割、冲压)vs 深度加工(如精密成形、复合表面处理)。
% s) Z' \' |( |7 S
7 m) L' [$ ^+ ]3 v功能需求:基础成形(铸造、锻造)vs 功能优化(热处理、超精加工)
3 v2 m% L: _' K4 w  D. T. U7 E- v% a* p/ l+ ]
注:具体工艺分类可进一步查阅《机械制造工艺方法分类与代码》(JB/T 5992系列)及《金属和其他非有机覆盖层 关于厚度测量的定义和一般规则》(GB/T 12334-2001)。* r8 B0 V& l8 q  d0 c! v
1 C" ~/ ^' J0 ]; ^; H
w7.jpg ' [1 [$ A; H0 `5 y- B4 \
0 _8 x, Z- E; v3 p, C# i
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7 n; e* E8 \. i. a- H" s2 D6 K: M

( K6 q! @  a) m( Q% M
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6 S! r, S' I, m1 v* h" M
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