半导体产品原产地认定规则大变!一文读懂申报要点 全球差异对比

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注：具体规定，认真学习《关于非优惠原产地规则中实质性改变标准的规定 海关总署122号令》的内容
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8 P- L; T- p  ]2 z0 d1 J; w7 S/ f# w今日，中国半导体行业协会发布《关于半导体产品“原产地”认定规则的紧急通知》，全新认定标准引发行业热议！此次调整不仅关乎企业进出口合规，更将重塑半导体产业链布局。今天，我们就来拆解新规核心内容，解读背后影响！

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一、新规核心：流片地成原产地“金标准”
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, i! u) L! ~- q+ H! U! z; I9 t核心变化：集成电路原产地认定采用**“四位税则号改变 + 30%增值”双重标准**，明确流片地即原产地！
✅ 税则号改变：生产过程需实现海关编码四位税则号变更，直接锁定核心制造环节。
- \/ F4 T2 z/ S✅ 增值门槛：流片环节价值增量需≥30%，确保制造工序的实质性贡献。
✅ 关键工艺：氧化、光刻、蚀刻等晶圆制造核心工序成为判定焦点。

! q: l9 W. k5 W, S; V二、企业必看：申报实操与材料准备
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* ]( S3 `& X. S! T5 `( ~1️⃣ 报关规则：无论封装与否，晶圆流片工厂所在地即为原产地申报依据！
: O$ y9 P9 e  N, w! H. }9 m* g2️⃣ 材料准备：务必准备PO（采购订单）证明材料，海关核查时需清晰展示流片环节的成本构成与增值数据。
3️⃣ 风险提示：错填或瞒报原产地信息，可能面临罚款、扣货等处罚，企业需立即自查供应链流程！
0 z9 ]. B9 W8 l1 m' n* ?# n7 ?三、国际视角：全球规则差异对比

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提醒：跨国企业需同时满足中国新规与目标市场规则，避免双重合规风险

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